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磁控濺射鍍膜機是一種常用于制備薄膜的設備，其基本原理是利用高能量電子轟擊靶材表面，使得靶材物質(zhì)從表面剝離并沉積在基材上形成薄膜。這種技術(shù)可以制備各種類(lèi)型的薄膜，包括金屬、氧化物、氮化物等，并且常用于制備電子器件中的金屬導電層、襯底層等。磁控濺射鍍膜機主要由靶材、基材、真空室、電源、電子束槍等組成。其中，靶材是濺射鍍膜機的關(guān)鍵部分，其選擇對于薄膜的性質(zhì)和質(zhì)量有著(zhù)至關(guān)重要的影響?；膭t是需要被鍍覆薄膜的材料，通常是半導體晶片、光學(xué)元件、金屬器件等。真空室則是為了保證反應環(huán)境的純凈...

等離子體原子層沉積是一種基于化學(xué)反應的薄膜制備技術(shù)，利用等離子體增強的化學(xué)反應來(lái)實(shí)現單原子層沉積。它可以制備高質(zhì)量、均勻、具有精確定位控制的納米薄膜，廣泛應用于微電子、光電子、傳感器、能源、儲存和生物醫學(xué)領(lǐng)域。該技術(shù)以等離子體為輔助，實(shí)現了原子水平的沉積控制。等離子體是一種由帶正或負電荷的電離分子和自由電子組成的高度激發(fā)態(tài)的氣體，通過(guò)高頻交流放電或射頻放電等方式產(chǎn)生。等離子體可以提供高能電子和活性化學(xué)物種，與前驅體氣體中的化學(xué)鍵斷裂和形成新化學(xué)鍵，實(shí)現表面反應沉積。技術(shù)中，前...

桌面式原子層沉積系統是一種高精度的薄膜沉積技術(shù)。它能夠在納米尺度上控制薄膜厚度和成分，主要的應用領(lǐng)域是微電子制造。在芯片生產(chǎn)中，可以用于制備高質(zhì)量的介電薄膜、鋁電極、金屬氧化物等材料。此外，還可以用于制備納米材料、薄膜太陽(yáng)能電池、磁性材料等應用。工作原理是利用化學(xué)反應將原料氣體分子逐層沉積在襯底表面上。在沉積過(guò)程中，每個(gè)原子層的厚度可以達到亞納米級別，這使得其成為一種高精度、高可控性的薄膜沉積技術(shù)。該技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)包括：沉積速度快、薄膜質(zhì)量好、成本低等。桌面式原子層沉積系統的優(yōu)點(diǎn)...

粉末原子層沉積是一種新興的化學(xué)氣相沉積技術(shù)，它將傳統原子層沉積技術(shù)擴展到了粉末材料表面的修飾?？梢詫Ω鞣N粉末材料進(jìn)行表面修飾，例如金屬、氧化物、非晶體等，從而獲得所需的表面性質(zhì)和功能。在本文中，將對其技術(shù)進(jìn)行詳細探討。1.原理和機制：它的原理和傳統技術(shù)相似，都是通過(guò)交替注入兩種或多種前驅體分子來(lái)完成預定周期的化學(xué)反應，從而在材料表面逐層生長(cháng)一定厚度的薄膜。使用的是粉末材料作為反應基底，可以通過(guò)氣流或旋轉式反應器等方式將粉末材料投入反應室中。此外，還需要考慮粉末材料的內部孔隙結...