欧美日韩精品一区二区三区影院-免费在线日韩欧美一区二区三区-亚洲国内精品久久久久久-日韩欧美高清一二三区在线

全國服務(wù)咨詢(xún)熱線(xiàn):

18396591470

當前位置:首頁(yè)  >  產(chǎn)品中心   >  半導體行業(yè)專(zhuān)用儀器  >  PALD

  • 粉體包覆(Atomic layer deposition)是通過(guò)將氣相前驅體脈沖交替地通入反應腔體內并在沉積基體上化學(xué)吸附并反應而形成沉積膜的一種技術(shù),具有自限性和自飽和。原子層沉積技術(shù)主要應用是在各種尺寸和形狀的基底上沉積高精度、無(wú)針孔、高保形的納米薄膜。

    訪(fǎng)問(wèn)次數:1486
    產(chǎn)品價(jià)格:面議
    廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
    更新日期:2024-05-08
共 1 條記錄,當前 1 / 1 頁(yè)  首頁(yè)  上一頁(yè)  下一頁(yè)  末頁(yè)  跳轉到第頁(yè) 

電子郵箱:[email protected]

公司地址:廈門(mén)市集美區集美北大道1068-6號安仁產(chǎn)業(yè)園

業(yè)務(wù)咨詢(xún)微信