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雙腔室超高真空磁控濺射系統QBT-P配備進(jìn)樣室及濺射腔室，濺射室配備離子刻蝕功能，腔室內配備超高真空傳輸，設備真空度≤3E-9Torr，基板加熱900℃，可制備超導Ta/TiN/NbN/Al/Nb等薄膜

磁控濺射鍍膜機廠(chǎng)家在陰極靶的表面上方形成一個(gè)正交電磁場(chǎng)。當濺射產(chǎn)生的二次電子在陰極位降區內被加速為高能電子后，并不直接飛向陽(yáng)極，而是在正交電磁場(chǎng)作用下作來(lái)回振蕩的近似擺線(xiàn)的運動(dòng)。高能電子不斷與氣體分子發(fā)生碰撞并向后者轉移能量，使之電離而本身變成低能電子。

雙腔室超高真空雙磁控測射系統在陰極靶的表面上方形成一個(gè)正交電磁場(chǎng)。當濺射產(chǎn)生的二次電子在陰極位降區內被加速為高能電子后，并不直接飛向陽(yáng)極，而是在正交電磁場(chǎng)作用下作來(lái)回振蕩的近似擺線(xiàn)的運動(dòng)。高能電子不斷與氣體分子發(fā)生碰撞并向后者轉移能量，使之電離而本身變成低能電子。